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核心技术

图为:拉普拉斯深圳生产基地

热控制技术研发

研究包括热场控制、热管理相关的技术。

热场控制针对不同负载的热炉模拟、设计,通过算法和设计控制反应腔体内的热场分布,以及热场相关的炉丝材质、布置、保温材料细分、结构设计、温控自研等方面研究,获得高升温速率、高降温速率、硅片温度一致性好的热场。

热管理针对热交换系统、冷却系统、隔热系统相关的研究。

具备热场设计制作、高性能温度控制、热交换系统、冷却系统、隔热系统相关的设计开发能力。

气流场控制技术

研究包括不同工艺的气流场设计、气流控制相关零部件研究、气流系统设计。

工艺气流场设计:结合反应腔体内的负载分布、热场分布模拟经验,通过长期的实践经验指导,不断修正模拟仿真参数,配置出部分工艺可应用实践的半定量模拟仿真结果,与实际工艺相互验证促进。

气流控制相关零部件研究包括流量控制器、蝶阀、管道、阀门等。

气流系统设计是针对不同工况需求的气流系统设计,包括进气系统、排气系统、过滤净化等。

具备工艺气流场模拟优化、气流系统零部件分析研究、进出气系统、过滤净化等设计能力。

光学测控技术

研究包括激光器、多种光束整形器和激光偏转控制系统。

通过光斑测量、能量分布测量、干涉测量、远场测量、热成像测量、重复精度测量等方法,研究整形后激光的尺寸精度和强度分布均匀性、能量传输效率、稳定性、热效应等。

具备设计复杂的激光光路设计、激光偏转控制设计能力。

电磁场与等离子体技术

研究电磁场和等离子体相关技术如:双频PECVD、电感耦合射频放电、电容耦合射频放电、微波放电技术以及相关舟的设计等。

通过高能等离子体来实现对材料表面进行精细加工,如刻蚀、清洗、镀膜等方面。通过精细调控电磁场的强度和频率,调节等离子体的密度和温度,改变化学反应的速度和性质。

具备电磁模拟、电磁设计、控制等离子体系统、故障诊断的能力。

智能系统技术

研究高可靠的控制系统,和在此基础上的逐步智能化的系统,以及相关适配设备应用的软硬件的开发。

通过采用可靠的架构设计、冗余设计、依靠严格的编程规范,全面的测试验证,专门的故障检测和恢复机制,持续的监控。

智能化体现在设备安装调试运行过程中的优化功能,自研适配设备的软硬件模块,分布式架构,避免单点故障,开发故障诊断算法,快速定位故障问题。

具备系统设计、高可靠性的系统架构设计、软硬件开发能力。

模拟仿真技术

研究单场模拟仿真和多场耦合的仿真。

为设计和工艺进行模拟仿真,如结构设计分析、气流场、热传导、热应力、工艺等模拟仿真。

具备力学、热学、电磁场、等离子体的相关的模拟仿真能力。

算法与人工智能技术

研究算法和AI在光伏设备、光伏产线上的应用。

通过设备运行的大量详尽数据和测试数据,修正数据,构建和训练AI模型,讲开发的算法和AI模型集成到产品中,学习硅片缺陷识别、学习优化调整工艺参数、预测设备故障、提前维护。结合智能软件的策略性预测设备故障,持续优化学习。

具备优化算法、机器视数据预处理、模型评估和优化、处理和分析大规模数据集的能力。